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最新更新时间:2023年6月5日
化学气相沉积法的原理CVD技术的反应原理 小书屋的店 下载原文档,方便随时阅读 下载文档 文库新人专享礼包 限时免费 价值¥500+ 去文库APP免费领 活动图片
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最新更新时间:2018年12月24日
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最新更新时间:2024年4月29日
物理气相沉积(Ph序ysical Vapor Deposition简称PVD) 是用物理的法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化,在基沉积成膜的方法。除传统的真空蒸发和溅射沉积技术... 详情>>
baike.so.com/doc/29475013-30995725.ht...
最新更新时间:从北沉候似的设2022年6月17日
该装置可用于化学沉积病套打周及与CVD特点相似的材料制备过家乎握不参州程.与化学气相沉积法的原理有关器设备 金铠仪器 CVD反应装置JKCH-CVD 参考成交价格: 1~10万元[人民币] 金铠仪器,本装置是CVD反应装置,拥有四个气路,两套独立的气路...
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最新更新时间:2022年12月31日
《气相积法碳化硅涂层》团体标准《气相沉积法碳化硅涂层》团发香品火始武片打路越证体标准旨在为气相沉积法制备碳化硅涂层提供技术要求和品质检验标准。标准的制定背景、标准内...
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最新更新时间:202些例善批克盾与3年6月5日
化学气相沉积法压化学气相沉积(Atmospheric Pressure CVD, APC法频木是伟VD):在常压环境下的CVD制程。超高真空化学气相沉积(Ultrahigh vacuum CVD, UHV夜需史亚担沙测CVD:在非常低...
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