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2、溅射靶材用于磁控溅镀膜,溅射镀膜是种新型的物理气来自相镀膜(PVD)方式.一方面溅射镀膜工艺起源于国外,对所需溅射靶材的性能要求高、专业性强,属于技术密集型产业,新进入者规必养找棉给妒兵这湖原无论在技术、设备、人才面均需要大规模投入;另一方面,靶材行业财圆考破守下游客户认证周期长,客户定制化程度高.
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最新更新时间:2024年得3月16日
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最新更新时间:2024年4易月26日
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最新更新时间:2023年6月20日
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最新更新时间:2023年7月14日
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最新更新时间:2024年3月
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最新更新时间:2023年8月1日
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