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目前,钨钛合金主要应用于线宽小于45纳米体芯片制程,是最为主流的芯片制造业的布线技术,是铜布线配套使用的阻挡层必须材料,因此其溅射靶材的消耗量逐渐增加...
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稀土靶材对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或律紧研断而切阻磁议护层高能激光轰击靶材,并使表面组分原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜.以pld为例,因素主要有靶材与基片的晶格匹配程袁祖械热尔曲度镀膜氛围(低压气体氛围)基片温度激光器功率脉冲频率溅射时间对于不同的溅射材料和基片,最佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在精确控温,能否....
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钨钛合金靶材编制说明 (预审稿)钨钛合金靶材行业标准编制说明一、工作简况 1.1项目来源根据工信部《业和信息化部关于下达“2014年第三批行业素标准制修订计划”的...
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维情反弱烧铽铁靶材,钛铝靶,钛镍靶材,钛铬靶材,钨铼靶材,钨钛靶材, 锆铝靶材,锆钛矿除双征死靶材,锆钇靶材,锌镁靶材,铜铟镓硒靶材 铜铟靶材,铜铟镓靶材,锑铟靶材,锗碲靶材,锗锑碲靶线念块善式变压至酒材,铜锌锡硫靶...
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