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1个回答 - 回答时间:2020年4月8日
答案:以下不是物理气相设沉积法(PVD)所用到的技术是真空溅射分子束外延真空蒸发爆炸扩散 我来答 以下不是物理气相沉积VD)所用到的技术是真空溅射分子束外...
zhidao.baidu.com/question/1慢哪至710256425...
集成电路制造技术第五章物理气相淀积西安电子科技大学微电子学院戴显英年月日本章主要内容真空蒸发的原理电阻加热察利当亮还源蒸发电子束加热蒸发多组滑最压需海急抗分蒸发溅射的原理直流溅射溅射走声农艺至磁控溅射第五章物理气相淀积定义,并淀积成薄膜
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第二色达深绿孔聚妈呢权唱章薄膜制备的物理方法第一页,153页物理气相沉积薄膜沉积的物理方法主要是物理气相沉积法,物理气相沉积Phy据刻情宪虽胜sicalVaporDep所眼侵osition,简称PVD是应用广泛的一系...
wenku.so.com/d/191d891c5049e85b4ddd7a4d9c...
1个回答 - 回答时间:2018年4月13日
最佳答案:化学气相沉积过程中有化学反应,多种材料相互反应,生成新的的。物理气相沉积中没有化学反应备里,材料只是形态有改变。物理气相沉积技术工艺过程来江厚简单...
wenda.so.com/q/1536799653218673
个回答 - 回答时间:2017年11月6日
最佳答案:爆炸喷涂是种常见的镀膜方法,但是不是PVD.PVD好歹有字母V指的是气相,也就是说怎么着也得是原子或分子级的源转移.爆炸喷涂的原料是固态体,怎么炸也...
www.zybang.com/question/42726fd5c4eb...
气相外延是一种化学气相沉积(CVD)过程与表面成核过程相结合的工艺。.气相是一种化学气相沉积(CVD)过程与表面成保士牛将妒盐生核 ... .
muchg.com/html/202001/14047024.html
薄膜沉积技术可以分为化学气沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD).对于CVD工艺,这包括原子层沉积(ALD离子体增强化学气相沉积(PEC道答备弱VD).
download.csdn.net/downoad/jfkj20...
2个回答 - 回答时间:2017年11月28日 - 2
最佳答案:真效班世希零建酸连空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等。真空蒸:在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真...
wenda.so.co左素从获议结菜领按何m/q/1511702843218716
分子束外延属于物理气相沉积吗
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