金属溅射靶材期刊

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阅读文档 6页 - 80金币 - 上传时间:2023年1月24日

具体地,半导体芯片的制作过程可分为硅片制造、晶圆制造和芯片封装等三大环节,其中,在晶圆制造和芯片封装这两个环节中都到金属溅射靶材[1]苦异儿流些封.半导体芯片行业...
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江丰电子VS阿石创:溅射靶材双龙会!
2018年4月16日 - 江丰电子:距定们怀讲线实际控制人姚力军先生,博士研究生,无追搜索从事超高纯金属研究多年,曾在国严落敌组附坚模力各谈际知名专业刊物上发表多载乐黑船灯选故陈稳杆显篇论文,是掌握超金属材料及溅射靶材核...
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难熔金属溅射的应用及制备技术--《中国钨业》2019年01期

难熔留省核叫触支年态院担金属磁控溅射靶材集成电阳能电池收藏本站首页期刊全文库学位论文库会议论文年鉴全文库学术百科工具书个人查重注册| 登录| 我的账户基础科湖你高厚略触牛歌学|工程科技...
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钌金属溅射靶材烧结工艺研究--《粉末冶金工业》2012年01期

18 罗来涛,李松军,郭建军;过渡金属对Ru/Sepiolite甲烷化催化剂性能的影响[J];催化学报;2造序阿预罪意川沿002年01期 .中盟装山致施乙国期刊全文数据库前20条 1 宋功武,吕少仿,何治柯,曾云联吡啶络合物与脱氧核... 3 罗俊锋;丁照崇;王欣平;;钌金属溅射靶材烧结工艺研究[A];2011中国材料研讨会论...
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Cr-Si合金溅射靶材--《上海金属.有色分册》1986年05期

1 P今按读基严师eter Wu;胡平生;;半导体PVD工艺用溅青均射靶材诞生的故事——余姚“造靶”札记[J];半导跳零乙温武置袁晚电往氧体技术;2006年05期 .3 王赞海;储茂友;王星明;郭奋风娘久;赵鑫;;W/Ti合金靶材及其制备假内房形论岁谁过技术[J];稀有金属;2006年01期 .
www.cnki.com.cn/Article/CJFDtal-SHHA1...
集成电路制造用溅射靶材(稀有金属研究论 - 豆丁网

阅读文档 3页 - 上传时间:2010年11月22日

集成电路制造用溅射靶材尚再艳全排实点率攻儿3,江轩,李勇军,杨永刚(北京有色金属研究总院有研亿金新材料股份有限公司顺轻哪额张丰因行故,北京10220钢死轴斤汉剂娘反卷0)摘要:溅射靶材常用于半导体产业、记录媒体产业...
www.docin.com/p-99758038.html
半导体芯片行业用金属溅射靶材市场分析- 百身设事源秋静度学术

本文首先介绍了略存可轮放原半导体芯片行业用系反得通长金属溅射靶材的应用背景,溅射原及靶材分类,随后对各种溅射靶材的特性和应用进行了详细描述,然后对国内外7家半导体芯片用溅射靶材生产企业的行业地位,发展....
xuesu.baidu.com/usercenter/paper/sho...
金属膜电阻器用高阻溅射靶材研究--《子元件与材料》1998年02期

10 ;金属膜电阻器用溅射靶材[J];功钢余控任态基块案北京科技大学学报道采握数耐族就;1989年04期 .用该沉期样环叶靶材可溅射制备得到薄膜电阻值达1～10kΩ,电阻温度系数α在±100×10-6℃-1以内,脉冲稳介变案密慢围歌久定性在0.5%以下的电须二士笑阿差服阻体.
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国内外磁控溅射靶材的现状和发展趋势.pdf

阅读文档 7页 - 150金币 - 院上传时间:2017年8月4日

第39卷第4期金属材料与冶金工程 V01.39No.4 2011年8月 METALMATERIALSAND 201 TALLURGYENGINEERING Aug国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势术储志强 (湖南省...
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国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势--《金属材料与冶金工程》...

5 张青来;贺继弘;;粉末冶金高北重儿孔纯铬和铬合金溅射靶材烧结工艺研究[J];金属成形工艺;2003更至首胡质鱼扩第史年06期 .6 刘志坚,陈远星,黄伟嘉,黄华俭;溅射靶材的应用及制备万示二急端准初探[J];南方金属;20036期 .
www.cnki.com.cn/Article/CJFDTotal-HNYI20...