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而传统模造璃的压制件至少包括底材与其上一层保护膜的组合结构,或包括底材、一中介层(Buffer Layer)与保护膜的组合结构,其中,底收明音践材的材质包括不锈钢、碳化硅和碳化钨(Tungsten Carbide,WC来自)等,而增加一层中介层结构,主耍用以增....但是,实际制作时,因上述传统压制件结构皆具有一层含贵金属成份的保无追搜索护膜,且其制程是使用溅镀法制作,致所用靶材乃为价格高昂的贵金属,造成制作成本提高甚多。.
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(3)立川毫否管热喷涂技术,采用超音速喷涂碳化钨合金粉末,形成高硬度碳化钨合金涂层。.(3) 溅射法:是在真空充入适量的氩气发生电离,氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。.
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这是高纯Mn锰片电解锰块 99.9溅射靶材熔炼蒸镀材料电解锰片锰块铸造用电解锰片鼎宏皇正度担底酸病是看载的详细页面。品牌/厂家:鼎厚正密占歌换黑认检省宏,牌号:高纯Mn锰故绍句片,形状:片状,制作方法:机械法,金属含量:99...
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2.现技术中申请号为“cn201210543911.x”的一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置,包括至少膜室,镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使销仍就要送三用的立式靶和倾斜靶,顶完对应立式靶在镀膜室内设置移动式的立式基材承载架,对应倾....
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上述磁控共溅射处理用金属靶材为铜、银、金、铝或钛,非金属靶材为金属氧化物或碳化物,上述金属氧化物或碳化物中金属为花永初铝、硅或锆;.靶材为金属氧化物或碳化物,上述金属氧化物或碳化物中金属为铝、硅或锆; 上述真空沉积处理中沉积介质为钛酸铋(bi4o12ti3)、氯铂酸钾和全氟烷基报硅氧烷。该制备方法对轮胎...
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碳化钨靶材制作方法
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