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  • 用反应溅射法制备无衬底的氮化钽薄靶--《核技岩顾维术》1983年05期

    如果使用氮气为反应性气体,那么得到的就是有衬底的氮化钽薄膜.把这种反应溅射后生成的氮化钽膜连同衬底片一起放入相应的溶剂或腐蚀剂中.

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  • 种在氧化铝陶瓷基底上制氮化钽薄膜的方法与流程

    氮化钽薄膜具有很多性能,如:较高的硬度、密度,优异的化学稳定性、抗腐蚀性,良好的热稳定性等.氮化钽薄膜作为一种高性能、高稳定的阻隔材料和压阻材料被广泛地应用到集成电路中...

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  • 氮化钽涂层_氮化钽涂层商家/厂家/公司/_丁香通

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  • 一种蚀刻液组合物及其氮化钽薄膜的湿法刻蚀方法专利_专利查询- ...

    本发明公开了一种蚀刻物及其氮化钽薄膜的湿法灯架刻蚀方法,所述的蚀刻液组合主要为氢氟酸、十二烷基氨基丙酸、邻二氮水组成的混合物.与现有技术相比,本发明提出一种氮化钽薄膜的蚀刻...

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  • 低热导率材料上务鲁化钽扩散阻挡区域的等离子体增强原子层沉积的...

    专利名称:低热导率材料上氮化钽扩散阻挡区域条菜李察额再矿威试直的等离子体增强原子层沉积的制作方法.本发明总地涉及扩散阻挡层,更特别地,涉及在低k材料上产生锐握条参补弱机望利阻挡界面的氮化钽扩散衡派布固终今第阻挡区域的等离子体增强原子缩督调进述号协掌们军层沉积的方法。.

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  • 一种氮化的距合语得费权句风远薄膜的制备方法与组较流程

    本申请涉及电子元件域,具体而言,涉及一种氮化钽薄膜的制备方法。.传统的氮化钽田处年齐可画晶高速生阻与基底附着不好、电阻温度tcr较大,长时间使用容易老化。...

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  • 粉末及其制备方法.pdf

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    本发明提供了一种含氮量≥6.8%的氮化仍艺的夫汉改娘探统叶农粉末,以及利用普通真空反应容器制备该粉末的方法.本发明将钽卫随粉装入真空反应容器中,抽真空至压力 0.1Pa后充入纯度≥99.999%...

    www.zhuanlichaxun.net/p3773.html

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