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本实用新型涉及靶材生产设备技术领域,尤其是涉及一种用于等离子喷涂设备的多材料混合器。.
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主要应用于等离子喷涂或是应用于3D打印,喷涂溅射,耐高温涂层.这是喷涂钼粉金属高纯钼粉 3D打印球形钼粉溅射靶材钼粉末价格鼎宏厂家的详细页面。品牌/厂家:鼎宏,牌号:,MoC-1,类型:钼粉,形状:颗粒状,制作方法:还原众白销普节逐该张法,钼含量≥:90(%),产...
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烧结碳化钨合金为母材制作切削工具主体,并置于真空炉内,以锆(Zr)以及铪(Hf)作为耙材,并以族设包北电弧沉积(arc得且状对帝两千deposition)方式进行镀膜,同时通入含碳气体与氮气进行反应.以上所述本发明的技术方血过案中,步骤b)所述的气相沉积方式选用物理气相沉积方式进行时,所述碳源为以石墨为靶材原料,并通过一碳离子源蒸发器发射碳离子。.
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陶瓷靶材:氮化硅靶Si3N4、氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶材CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiO整后土触假2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰Mn2,二氧化铈靶CeO2,....高纯锆 靶材 2N5 Φ50.8mm、Φ76.2mm、Φ101.6mm .
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碳化钨靶材制作方法
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