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光刻胶是什么材料光刻胶成分与用途-土巴兔装修问答
光刻胶,又称光致抗蚀剂,具有光化学敏感性,在光的照射下溶解度发生变化,一般以液态涂覆在半导体、导体等基片表面上,曝光烘烤后成固态,它可以实现从掩膜版到基片上的图形转移,在后续的处理工序中保护基片不受侵蚀,是微细加工技术中的关键材料。
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- 负性光刻胶 主要有聚肉桂酸系（聚酯胶）和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的 KPR为代表，后者以 OMR系列为代表。 2、正性光刻胶 主要以重氮職为感光化合物，以酚醛树脂为基本材料。最常用的有 AZ-1350系列，主要优点是分辨率高，缺点是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等较差。负性电子束光刻胶 为含有环氧基、乙烯基...详情 >“用于I线(365nm)和G线(436nm)的光刻胶主要成分是聚合物树脂、光敏化合物(PAC)和溶剂。溶剂含量变化可以改变光刻胶粘度,从而在合理的转速范围内得到刻蚀所需的厚度;PAC是重氮萘醌酯化合物,主要用于线性酚醛树脂体系光刻胶中,如g线/i线光刻胶,决定光刻胶的光敏程度,在光子的作用下,PAC分解,进而激发光化学反应。目...详情 >查看更多精选
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安装无追扩展，拦截潜在追踪器
添加扩展到浏览器添加后不再显示 【光刻胶主要原材料】 1)溶剂、感光剂、树脂是光刻胶的三大原材料...
2023年3月12日 - 2)在原材料配套方面,目前我国大陆半导体光刻胶原材料市场基本被国外厂商垄断,如若不能实现原材料国产化,未来即使光刻胶成品实现技术与量产突...xueqiu.com/7743655442/244220765
光刻胶的原材料有哪些?_360问答
1个回答 - 提问时间：2021年08月15日
最佳答案： 刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂 详情>>wenda.so.com/q/1638240960216078?src...
光刻胶_360百科
佳先股份(430489):子公司英特美光刻胶原材料项目预计6月底建成投产
2024年3月6日 - 格隆汇3月5日丨佳先股份(430489)披露投资者关系活动记录表显示,公司子公司安徽英特美科技有限公司正实施建设的光刻胶原材料对乙酰氧基苯乙烯生产线,是在有明确的客户并建立稳定联系的背景下实施建设的, 格隆汇3月5日丨佳先股份(430489)披露投资者关系活动记录表显示,公司子公司安徽英特美科技有限公司正实施建设的光刻胶原材料...www.360kuai.com/pc/99fdfacdefe63d447?...
半导体核心材料—光刻胶概述- 知乎
产业链上游:主要涉及溶剂、树脂、光敏剂等原材料供应商和光刻机、显影机、检测与测试等设备供应商。从原材料市场来看,由于中国从事光刻胶原材料研发及生产的供应商较...
zhuanlan.zhihu.com/p/3767992...
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鼎龙股份:高端晶圆光刻胶产品处于客户端验证阶段,打印复印耗材...
公司回答表示:1、公司布局高端晶圆光刻胶(KrF/ArF光刻胶)产品,产品开发、市场推广、原材料自主化、产线建设等工作同步进行。公司现已打造了武汉和潜江双研发中心,已建...
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光刻胶原材料
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