等离子刻蚀机_360百科
外文名称:Plasma etching mhine
别名:离子蚀刻机、等离子平来自面刻蚀机
最新型号:RIE反应离子刻蚀无追搜索机-FA2000
新品功能:FA2000主要用于微电子、光电子
蚀刻方法:反应性等离子体,顺流等离子体
工艺频率:30 kHz和13.56 MHz射频电源baike.so.com/doc/929986-9829...
最新更新时间:2019年10月21日
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最新更新时间:2024年3月21日
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最新更新时间:2024年3月22日
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最新更新时间:2024年4月18日
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