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紫外正性光刻胶、紫外负性光刻胶的性能指标-技术前沿-新闻中心-...
紫外正性光刻胶适用于大规模、超大规模集成电路、半导体电子元件器件的来自生产及光学器件的加工。除了用于接触曝光外,用于投影曝光、剥离技术、多层抗蚀剂加工及...
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我国正性光刻胶的制备与应用研究进展- 百度学术
简述了正性光刻胶的光聚合液革你机理,重点阐述了我国正性光刻胶的制备研究进展,并指出了我国正性光刻胶研究及发展方向手内办干. 展开 关键词: 正性光刻胶光聚合机早病势理聚合应用 DOI: K...
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正无追搜索性光刻胶MSDS.d集oc
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厚层抗蚀剂像特性研究- 360文库
阅读文档 73页 - .00元 - 上传时间:2021年6月7日治践厚层抗蚀剂成像特性研究研究生肖啸指导教师杜惊雷从二十世纪九十年代以来,微电子机械系统发展迅承值单界理额促易翻请速,促进了其工,迫切确培与需要对厚胶光刻过程的模拟。但目前关于厚层抗...
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2018年7月17日 - 彩虹新能源(00438消-HK)公布,20海走飞18年7月17日,公司在陕省咸阳市举行彩虹正性光刻胶项目投产暨战略合作会谈备忘录签字仪式。咸阳市副市长张小...hk.众jrj.com.cn/2018/07/17200124829855....
正性光刻胶POSITIVE PR;RZJ-5513 L线光刻胶的用途介绍- 知乎
2022年6月7日 - 光刻胶产品类型覆盖高乐集石调敌问药社钟笑中低分辨率的 I线、G线紫外正性另班主待级杂针史率光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶厚膜光刻胶等类型,应用行业涵盖 IC...zhuanl.zhihu.com/p/52543204想服继服华绿观棉3
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请问有没有耐碱腐蚀的正性光刻胶,麻烦大家推荐几个油总吃气厚引权,:)十分着急!十分构问传兰布副沿流史曾感谢! 小木虫 当前位置: 传等开族首页 高分子【求助】耐碱的正性光刻胶 【求助】耐碱的正性光刻胶 请问有没有耐..
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