等离子刻蚀机_360百科
外文名称：Plasma etching machine
别名：离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机
最新型号：RIE反应离子刻蚀机-FA2000
新品功能：FA2000主要用于微电子、光电子
蚀刻方法：反应性等离子体，顺流等离子体
工艺频率：30 kHz和13.56 MHz射频电源baike.so.com/doc/929986-9829...
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PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统,可提供多种刻蚀解决方案.
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等离子体刻蚀机- 360文库查看更多优质文档 >共38页5.0
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共32页4.0等离子体刻蚀机使用说明书最新版中国电子科技集团公司第四十八研究所M422002UM型等离子体刻蚀机用户使用说明书中国电子科技集团公司第四十八研究所2007年1月中国电子科技集团公司第四十八研究所目录1.概述18318318318318318
共19页3.0本发明公开了等离子体刻蚀机技术领域的一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法,包括机壳,所述机壳顶部固定连接有电离箱;本发明通过利用间断齿轮和T型齿板啮合使得其通过翻转轴带动晶圆架翻转180°,此时实现了对晶圆
共6页4.9太阳能电池生产设备主要设备扩散系统用途:设备应用于大规模集成电路、分立器件、 光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域,适用28硅片退火、氧化、扩散、预沉积等工艺。主要技术指标可配加工硅片尺寸:38
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Anatech ICP等离子刻蚀机-迈可诺技术有限公司
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